Bersagli di zinco sputtering (Zn)

Gli obiettivi di sputtering sono materie prime necessarie utilizzate nel rivestimento a film sottile con deposizione fisica di vapore. La deposizione sputtering, o rivestimento sputtering, è una delle tecnologie PVD. Durante i processi di rivestimento, le particelle bersaglio dello sputtering vengono espulse da un materiale solido per lo sputtering a causa del bombardamento del bersaglio da parte di particelle energetiche. È un processo elettronico che deposita pellicole sottili di metalli o altri materiali su una varietà di superfici.

KOBO ha una lunga e ricca esperienza per tutte le forme di produzione di target per sputtering di metalli come produttore senior di target per sputtering di metalli puri e target per sputtering di leghe.

I target per lo sputtering metallico sono generalmente costituiti da metalli altamente puri, sono ampiamente utilizzati e costituiscono materiali di rivestimento fondamentali per altre tecnologie di deposizione per sputtering. Offriamo target metallici in vari livelli di purezza per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti, con una purezza minima del 99,95% fino al 99,99%.

Lo zinco è un metallo bianco-bluastro, brillante e diamagnetico, sebbene i gradi commerciali più comuni del metallo abbiano una finitura opaca. Il metallo è duro e fragile alla maggior parte delle temperature ma diventa malleabile tra 100 e 150 gradi. Al di sopra di 210 gradi, il metallo diventa nuovamente fragile e può essere polverizzato mediante battitura. Lo zinco è un buon conduttore di elettricità. Per un metallo, lo zinco ha punti di fusione (419,5 gradi) e di ebollizione relativamente bassi (90).

Il target di zinco è un materiale utilizzato per la deposizione di film sottili, comunemente usato in tecniche come la deposizione fisica da fase vapore (PVD). Il target di zinco può essere realizzato mediante il metodo di fusione, che consiste nello sciogliere il metallo di zinco mediante riscaldamento e fusione, quindi preparare il target. Il materiale target in zinco ha buone proprietà chimiche ed elettriche e può essere utilizzato nella preparazione della pellicola di dispositivi fotoelettrici, celle solari e dispositivi di visualizzazione.

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